ミタ産業株式会社--船舶用のクラッチ・ブレーキ・電磁弁の販売及び設計 : 研究開発支援機器

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研究開発支援機器







HOME >> 商品説明(陸用) >> 研究開発支援機器 (真空装置関係)


真空装置を中心とした研究開発支援機器です。
真空蒸着装置スパッタリング装置等の成膜装置から、材料加熱試験装置放電プラズマ焼結機など多彩な機器を販売致します。



超高真空スパッタ装置


 超高真空領域のバックグラウンドにおいて、スパッタリング成膜を行う装置です。成膜時のバックグラウンド真空度は 10
-4Pa台を維持します。

 本装置は試料交換室エッチング室成膜室より構成され(写真ではエッチング室が装備されていません)、スパッタ装置ながら高純度の成膜が可能となっています。また、試料とターゲットは 200mm 以上の間隔で配置され、ダメージの少ない膜を作成できます。

 スパッタ源は 6源まで装着可能な構造となっています。



RFマグネトロン・スパッタリング装置


 本装置は電子デバイス研究用RFマグネトロンスパッタリング装置です。3in ターゲットが垂直方向に取り付けられ、基板は上フランジより水平方向に取付(直交配置)られています。

 基板を自転させることにより膜厚分布を向上させるとともに、基板は裏面よりランプヒータにより 700℃まで加熱することができます。



DCマグネトロン・スパッタリング装置


 
本装置は極めて薄い二種類の膜を数 100層にわたって連続成膜するための DCマグネトロンスパッタリング装置です。

 2個のターゲット電極が傾斜して取り付いており、基板を自転させて使用することにより±5%以下の膜圧分布が得られます。スパッタガスは 2系統あり、切換使用できます。

ターゲットとスパッタガスの種類の選択、印加するDC の値、シャッタ開閉のタイミングなどはパソコンで予めプログラミングしておき、それに従って自動的に連続多層膜成膜を行うことができます。
排気は主ポンプとしてターボ分子ポンプ(1000L/sec)を使用し、10
-6Pa 台まで排気できます。



有機EL用真空蒸着装置


 有機ELエレクトロルミネッセンス)デバイス専用の真空蒸着装置です。

有機EL用の素材は、その殆どが昇華で蒸発するため、蒸着温度が 100〜300℃と低いことが特徴です。
また、一層の膜は異なる有機物をドープして作成されます。
 本装置は 9個の有機物用蒸着源と 2個のメタル用蒸着源を装備し 3源同時蒸着が行え、計11個の蒸着源は同芯円上に配置され、基板を回転することにより膜厚分布を確保します。



有機EL用小型真空蒸着装置


 有機EL研究のための小型蒸着装置です。

 蒸着源は 3系統、 8種類を装備し、同時蒸着(ドーパントの添加)や多層膜の作成が可能です。

有機EL特有の、実験によるチャンバー内の汚染の清掃と試料の取扱の簡便さのために、角形のチャンバーとし、フロント扉を開くと内部全面に容易にアクセス出来る構造となっています。装置本体左右には大型の接続用フランジを用意し、ロードロック室等との接続ができます。本装置を多連とすることにより、多くの有機材料金属材料の多様な膜を作成することが可能です。



有機薄膜製造装置


 本装置は、ヒーティングセルで気化された有機物の蒸気分子をキャリアガスと共にオリフィスより分子ビームとして噴出させ、シャッタとチョッパを経由して、基板堆積させ薄膜を作成する装置です。
 装置は試料交換室中間排気室成膜室の 3室より構成されており、成膜室の大きさは約φ450mm×970mmH (約150L) です。 試料交換室中間排気室は、大量のキャリアガスを排気する必要から、各々 14B、 10Bの大きなDPで排気されます。



超高真空蒸着装置


本装置は試料交換室成膜室(蒸着室)、酸化室より構成されており、成膜室酸化室は 1×10-8Pa の極高真空を得ることができます。

 成膜室には 6kW 6連の電子銃が装備され、3個のクヌーセンセルを増設することが可能です。基板は+500℃から -100℃までの範囲で±1℃の精度で長時間の保持ができます。



高真空蒸着装置


 当社では、様々なタイプの蒸着装置を提供しています。

横型のチャンバーを備えた蒸着装置は 5連の電子銃蒸着源を備えた半導体デバイス用の薄膜作成装置です。

チャンバーは約φ450mm × 600mmL の横型で基板・蒸着源間距離は 300mm ありプラネタリホルダを使用することにより 2in ウエハ内で約 5%の膜厚分布(計算値)が得られます。

縦型のチャンバーを備えた蒸着装置は研究室用の電子銃蒸着装置です。チャンバーは φ300mm のSUS製で6kw 5連電子銃まで装着が可能です。排気系はターボ分子ポンプ(220L/sec) と油回転ポンプ(162L/min at 50Hz)で構成されており、短い時間のベーキングにより 5×10-5Pa 以下まで到達できます。





イオンエンジン開発用真空チャンバー

超小型衛星用の推進エンジンとして実用化が期待されている、イオンエンジンを開発するための装置です。

薄膜作成用真空装置とは異なり、このチャンバー内部は擬似宇宙空間として用いられます。

 50SCCMの噴射イオンビーム(ガス)に対し 10
-4Pa の真空度を維持するため、36in の蒸気拡散ポンプを主とした排気系で構成されています。全高は約2.4m です。




研究開発支援機器−その他
雰囲気制御高温試験装置


 この装置は高温での腐食等の雰囲気を得るために製作された実験装置です。

 石英またはセラミクス製の反応管を使用し、常用で1500℃までの加熱制御が可能な電気炉を装備しています。流量制御された6系統のガスによる混合がガスを反応管内に導入でき、各種の雰囲気にすることができます。

 装置上部には精密小型天秤を備えており、雰囲気中での資料の質量変化を測定することも可能です。更に、この装置では水蒸気発生装置を装備しており、加湿雰囲気をつくることもできます。水蒸気の搬送ラインは温度制御され、結露を防いでいます。

蒸気拡散熱処理装置

 本装置は高温域での気体ー個体間熱拡散反応を研究するために製作された実験装置です。

 反応炉にはセラミクス管を使用し、常用で1300℃までの加熱が可能です、炉は移動機構に搭載されており、加熱時に炉を移動させることにより、試料を擬似的に急冷することもできます。

 小型真空排気装置により予め反応炉内を真空とし、Ar置換が行えます。
ご使用方法によっては有機材料の高純度化にもお使いいただけます。



高速飛翔体試験装置


 本装置は発射部より模擬弾を発射してターゲット材料へ着弾させ、安全防具等に使用するための材料(主に高分子繊維材料)の被弾吸収特性一点集中応力特性など)を調べるための装置です。

 装置は被疑弾の発射室、弾の飛翔速度の検速室、ターゲット材料をセットする試料室からなり、これらが全長約5mの水平な架台の上に設置されています。

 飛翔する模擬弾の空気抵抗をなくすために、各室は10
-1Pa以下の真空排気装置が付属されています。模擬弾には磁石が組み込まれており、これが検速室に置かれたコイルの中を通過していく時に誘導される電圧をストレージオシロスコープで記録し、そのデータをパーソナルコンピュータへ転送して飛翔速度とエネルギーを求めます。

放電プラズマ焼結機

 放電プラズマ焼結プロセスは、圧粉体粉子間隙に低電圧でパルス状大電流を投入し、火花放電現象により瞬時に発生する放電プラズマ(高温プラズマ:瞬間的に数千〜1万℃の高温度場が粒子間に生じる)の高エネルギーを熱拡散電界拡散などへ効果的に応用したものです。低温から2000℃以上の超高温域において従来法に比べ200〜500℃ほど低い温度域で、昇温・保持時間を含め概ね5〜20分程度の短時間で焼結を完了します。


 粒子表面のみの自己発熱による急速昇温が可能なため、出発原料の粒成長を抑制することができ、短時間で緻密な焼結体を得ることができます。また圧粉体内部の組織が変化するのを阻止できるため、アモファス構造やナノ結晶組織をもつ粉末をそのままの状態でバルク化が可能です。





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